ASML ome'ë peteîha lote umi módulo sistema litografía High NA EUV

2024-12-26 21:15
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Ohasávo diez ary investigación ha desarrollo, ASML omoguahë oficialmente peteîha sistema de litografía EUV High NA (alta apertura numérica) Intel-pe diciembre 2023 - umi primeros módulos TWINSCAN EXE:5000, orepresentáva peteî paso tenonde gotyo fabricación de chip de punta peteî importante pyrũ.