Tower Semiconductor lança novos produtos de fundição padrão de processo fotônico de silício de 300 mm

A Tower Semiconductor, uma fundição israelense de soluções de semicondutores analógicos de alto valor, lançou recentemente um novo produto de fundição padrão de processo fotônico de silício (SiPho) de 300 mm. Este novo processo complementa a plataforma existente de 200 mm (PH18) da Tower, que já está em produção, para fornecer aos clientes soluções avançadas para atender à crescente demanda por comunicações de dados de alta velocidade em aplicações de comunicação de dados de próxima geração. Os novos produtos de 300 mm apresentam guias de onda de silício superiores e guias de onda de nitreto de silício de baixa perda líderes do setor. O tamanho maior do wafer melhora a compatibilidade com plataformas OSAT (Montagem e Teste de Semicondutores Terceirizados) padrão da indústria, ao mesmo tempo que facilita a integração perfeita com componentes eletrônicos, aumentando assim a eficiência geral.