Tower Semiconductor محصولات جدید ریخته گری 300 میلی متری فرآیند فوتونیک سیلیکونی را منتشر می کند

Tower Semiconductor، یک کارخانه ریخته گری محلول نیمه هادی آنالوگ اسرائیلی با ارزش بالا، اخیراً محصول جدید ریخته گری سیلیکون فوتونیک 300 میلی متری (SiPho) را راه اندازی کرده است. این فرآیند جدید، پلتفرم 200 میلی‌متری (PH18) موجود برج را که در حال حاضر در دست تولید است، تکمیل می‌کند تا راه‌حل‌های پیشرفته‌ای را برای پاسخگویی به تقاضای رو به رشد برای ارتباطات داده با سرعت بالا در برنامه‌های ارتباط داده نسل بعدی به مشتریان ارائه دهد. محصولات جدید 300 میلی متری دارای موجبرهای سیلیکونی برتر و موجبرهای نیترید سیلیکونی کم تلفات پیشرو در صنعت هستند. اندازه ویفر بزرگتر سازگاری با پلتفرم های استاندارد صنعتی OSAT (مجموعه و تست نیمه هادی برون سپاری شده) را بهبود می بخشد و در عین حال ادغام یکپارچه با قطعات الکترونیکی را تسهیل می کند و در نتیجه کارایی کلی را افزایش می دهد.