BCD-tekniikan kehityshistoria

BCD (Bipolar-CMOS-DMOS) -tekniikka on monoliittinen integroitu prosessitekniikka, jossa yhdistyvät BJT (Bipolar Transistor), CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) ja DMOS (Double Diffused Metal Oxide Semiconductor) transistoriteknologiat yhdessä. Edistyksellinen valmistusprosessi Sirun kehitti ensimmäisen kerran menestyksekkäästi STMicroelectronics vuonna 1985. Integroitujen piirien tekniikan kehittymisen myötä BCD-prosessista on tullut valtavirran integroitujen piirien valmistustekniikka.