TSMC rapporte un énorme résultat de processus 3 nm de deuxième génération

TSMC a signalé avoir constaté des rendements « énormes » sur ses spécifications de processus de deuxième génération au niveau 3 nm. Selon la société, la densité de défauts D0 de N3E est comparable à celle de N5 et correspond au taux de défauts des nœuds plus anciens au même stade de leur cycle de vie respectif. Cela permet aux clients de pointe de TSMC, tels qu'Apple, de profiter relativement rapidement des avantages des nœuds de processus améliorés.