TSMC relata enorme saída de processo de 3nm de segunda geração

A TSMC relatou que está vendo rendimentos “enormes” em suas especificações de processo de nível 3nm de segunda geração. Segundo a empresa, a densidade de defeitos D0 do N3E é comparável à do N5, correspondendo às taxas de defeitos de nós mais antigos no mesmo ponto de seus respectivos ciclos de vida. Isso permite que os clientes de ponta da TSMC, como a Apple, colham os benefícios de nós de processos aprimorados de forma relativamente rápida.