TSMC сообщает об огромной производительности 3-нм техпроцесса второго поколения

TSMC сообщила, что они видят «огромную» производительность своих 3-нм технологических спецификаций второго поколения. По данным компании, плотность дефектов D0 в N3E сравнима с плотностью дефектов в N5, что соответствует уровню дефектов более старых узлов на одном и том же этапе их жизненного цикла. Это позволяет ведущим клиентам TSMC, таким как Apple, относительно быстро воспользоваться преимуществами улучшенных технологических узлов.