ТСМЦ извештава о огромној другој генерацији 3нм процеса

ТСМЦ је известио да виде „огромне“ приносе на својој другој генерацији 3нм процесних спецификација. Према компанији, густина Д0 дефекта Н3Е је упоредива са Н5, што одговара стопама дефеката старијих чворова у истој тачки у њиховим животним циклусима. Ово омогућава водећим купцима ТСМЦ-а, као што је Аппле, да релативно брзо искористе предности побољшаних процесних чворова.