TSMC съобщава за огромна производителност на 3n процес от второ поколение

TSMC съобщиха, че виждат "огромни" добиви от техните спецификации на процеса от второ поколение на ниво 3nm. Според компанията, D0 гъстотата на дефектите на N3E е сравнима с N5, съответстваща на нивата на дефекти на по-стари възли в същата точка от съответните им жизнени цикли. Това позволява на водещите клиенти на TSMC, като Apple, да се възползват от предимствата на подобрените процесни възли относително бързо.