TSMC omombe'u tuichaiterei segunda generación proceso 3nm osëva

2024-12-27 04:10
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TSMC omombe'u ohecháha hikuái rendimiento "tuichaitereíva" umi especificación proceso nivel 3nm mokõiha generación orekóva rehe. Péicha he'i empresa, densidad defecto D0 N3E oñembojoja N5 rehe, ombojoajúva tasa de defecto nodo itujavéva peteî punto peteîchagua ciclo de vida respectivo-pe. Kóva oheja umi cliente de punta TSMC-pegua, ha’eháicha Apple, omono’õ umi beneficio nodo proceso oñemyatyrõva rehegua relativamente pya’e.