TSMCは複数の露光方法を使用して1.6nmプロセスを実現

TSMCは、最新の研究開発の進捗状況の中で、複数の露光方法を使用することで、既存のEUVリソグラフィー装置で1.6nmプロセスを実現するという目標を達成したことを明らかにした。この画期的な技術は、半導体業界に高い生産効率とコスト削減をもたらします。