TSMC gebruikt meerdere belichtingsmethoden om een ​​1,6 nm-proces te bereiken

In zijn laatste R&D-voortgang onthulde TSMC dat het bedrijf door het gebruik van meerdere belichtingsmethoden met succes het doel heeft bereikt om het 1,6 nm-proces op bestaande EUV-lithografiemachines te realiseren. Deze baanbrekende technologie zal een hogere productie-efficiëntie en lagere kosten voor de halfgeleiderindustrie met zich meebrengen.