TSMC использует несколько методов воздействия для достижения 1,6-нм техпроцесса.

В ходе своих последних исследований и разработок TSMC показала, что, используя методы многократного экспонирования, компания успешно достигла цели по внедрению 1,6-нм процесса на существующих машинах для литографии EUV. Эта революционная технология повысит эффективность производства и снизит затраты в полупроводниковой промышленности.