TSMC uporablja metode večkratne osvetlitve, da doseže 1,6 n proces

V svojem najnovejšem napredku v raziskavah in razvoju je TSMC razkril, da je z uporabo metod večkratne osvetlitve podjetje uspešno doseglo cilj doseganja 1,6 n procesa na obstoječih EUV litografskih strojih. Ta revolucionarna tehnologija bo industriji polprevodnikov prinesla večjo učinkovitost proizvodnje in nižje stroške.