TSMC використовує методи багатократної експозиції для досягнення процесу 1,6 нм

У своїх останніх дослідженнях і розробках TSMC показала, що за допомогою методів багатократної експозиції компанія успішно досягла мети досягти 1,6-ннотехнологічного процесу на існуючих EUV-літографічних машинах. Ця революційна технологія підвищить ефективність виробництва та знизить витрати напівпровідникової промисловості.