TSMC sử dụng nhiều phương pháp phơi sáng để đạt được quy trình 1.6nm

Trong tiến trình R&D mới nhất của mình, TSMC tiết lộ rằng bằng cách sử dụng nhiều phương pháp phơi sáng, công ty đã đạt được thành công mục tiêu đạt được quy trình 1,6nm trên các máy in thạch bản EUV hiện có. Công nghệ đột phá này sẽ mang lại hiệu quả sản xuất cao hơn và chi phí thấp hơn cho ngành bán dẫn.