TSMC menggunakan metode paparan ganda untuk mencapai proses 1,6nm

Dalam kemajuan R&D terbarunya, TSMC mengungkapkan bahwa dengan menggunakan metode paparan ganda, perusahaan telah berhasil mencapai tujuan mencapai proses 1,6nm pada mesin litografi EUV yang ada. Terobosan teknologi ini akan membawa efisiensi produksi yang lebih tinggi dan biaya yang lebih rendah bagi industri semikonduktor.