Toshiba Electronic Devices and Storage Co., Ltd. stellt neue Fabrik fertig

Die Toshiba Electronic Devices and Storage Corporation gab bekannt, dass ihre Produktionsanlage und ihr Bürogebäude für 300-mm-Wafer-Leistungshalbleiter in Kaga, Japan, fertiggestellt wurden. In der Fabrik sollen Leistungshalbleiter wie MOSFETs und IGBTs produziert werden. Der Beginn der Großserienproduktion wird voraussichtlich in der zweiten Hälfte des Geschäftsjahres 2024 beginnen, wenn die Produktionskapazität das 2,5-fache des Investitionsplans im Geschäftsjahr 2021 erreichen wird.