Toshiba Electronic Devices and Storage Co., Ltd fäerdeg nei Fabréck

Toshiba Electronic Devices and Storage Corporation huet ugekënnegt datt seng 300mm Wafer Power Semiconductor Fabrikatiounsanlag a Bürogebai zu Kaga, Japan, fäerdeg sinn. D'Fabréck gëtt benotzt fir Kraafthalbleiteren wéi MOSFETs an IGBTs ze produzéieren. Grouss Produktioun gëtt erwaart an der zweeter Halschent vum Fiskaljoer 2024 unzefänken, wann d'Produktiounskapazitéit 2,5 Mol den Investitiounsplang am Fiskaljoer 2021 erreecht.