Toshiba Electronic Devices and Storage Co., Ltd. завершает строительство нового завода

Корпорация Toshiba Electronic Devices and Storage объявила о завершении строительства завода по производству силовых полупроводниковых пластин диаметром 300 мм и офисного здания в Каге, Япония. Завод будет использоваться для производства силовых полупроводников, таких как MOSFET и IGBT. Ожидается, что крупномасштабное производство начнется во второй половине 2024 финансового года, когда производственные мощности превысят инвестиционный план в 2021 финансовом году в 2,5 раза.