Toshiba Electronic Devices and Storage Co., Ltd. dokončuje novou továrnu

Společnost Toshiba Electronic Devices and Storage Corporation oznámila, že její závod na výrobu 300mm waferových výkonových polovodičů a kancelářská budova v Kaga v Japonsku byly dokončeny. Továrna bude sloužit k výrobě výkonových polovodičů, jako jsou MOSFETy a IGBT. Zahájení velkovýroby se očekává v druhé polovině fiskálního roku 2024, kdy výrobní kapacita dosáhne 2,5násobku investičního plánu ve fiskálním roce 2021.