Toshiba Electronic Devices and Storage Co., Ltd. завершує будівництво нового заводу

Корпорація Toshiba Electronic Devices and Storage Corporation оголосила про завершення будівництва заводу з виробництва силових напівпровідників із 300-мм пластинами та офісної будівлі в Казі, Японія. Фабрика буде використовуватися для виробництва силових напівпровідників, таких як MOSFET і IGBT. Очікується, що масштабне виробництво розпочнеться в другій половині 2024 фінансового року, коли виробнича потужність у 2,5 рази перевищить інвестиційний план у 2021 фінансовому році.