Toshiba Electronic Devices and Storage Co., Ltd. သည် စက်ရုံအသစ်ကို ပြီးမြောက်စေပါသည်။

ဂျပန်နိုင်ငံ၊ Kaga ရှိ ၎င်း၏ 300mm wafer ပါဝါတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်သည့်စက်ရုံနှင့် ရုံးခန်းအဆောက်အအုံ ပြီးစီးပြီဖြစ်ကြောင်း Toshiba Electronic Devices and Storage Corporation မှ ကြေညာခဲ့သည်။ စက်ရုံသည် MOSFET နှင့် IGBTs ကဲ့သို့သော ပါဝါတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ထုတ်လုပ်ရန် အသုံးပြုမည်ဖြစ်သည်။ ထုတ်လုပ်မှုပမာဏသည် 2021 ဘဏ္ဍာနှစ်တွင် ရင်းနှီးမြှုပ်နှံမှုအစီအစဉ်ထက် 2.5 ဆ ရှိလာသောအခါတွင် အကြီးစားထုတ်လုပ်မှုကို ဘဏ္ဍာနှစ် ဒုတိယနှစ်ဝက်တွင် စတင်ရန် မျှော်မှန်းထားသည်။