ຣັດເຊຍຈະພັດທະນາເຄື່ອງຈັກ lithography ເພື່ອຜະລິດຊິບ 7 ນາໂນແມັດໃນປີ 2028

ສະຖາບັນຟີຊິກສາດຂອງອົງການພັດທະນາຍຸດທະສາດ Veliky Novgorod ຂອງລັດເຊຍວາງແຜນທີ່ຈະພັດທະນາເຄື່ອງຈັກ lithography ທີ່ສາມາດຜະລິດຊິບ 7-nanometer ໃນປີ 2028, ເຊິ່ງຈະເຮັດໃຫ້ຜະລິດຕະພັນຂອງຕົນລື່ນກາຍຜະລິດຕະພັນທີ່ຄ້າຍຄືກັນຂອງບໍລິສັດ ASML ຂອງໂຮນລັງ. ບາດກ້າວບຸກທະລຸນີ້ຈະເຮັດໃຫ້ລັດເຊຍມີທ່າທີທີ່ເອື້ອອໍານວຍຫຼາຍຂຶ້ນໃນຕະຫຼາດ semiconductor ທົ່ວໂລກ.