Micron is van plan een nieuwe DRAM-geheugenfabriek voor EUV-lithografie te bouwen in Hiroshima

Micron is van plan 600 tot 800 miljard yen te investeren in de bouw van een nieuwe DRAM-geheugenwaferfabriek in Hiroshima, Japan. De waferfabriek zal EUV-lithografiemachines introduceren en is van plan begin 2026 met de bouw te beginnen. De verwachting is dat de fabriek eind 2027 officieel in productie zal worden genomen. Micron zal officieel de EUV-lithografietechnologie introduceren in het volgende generatie 1-gamma (nm) knooppunt dat in 2025 in massaproductie zal worden genomen.