A Micron új EUV litográfiás DRAM-memória-lemezgyár építését tervezi Hirosimában

A Micron azt tervezi, hogy 600-800 milliárd jent fektet be egy új DRAM-memória-lemezgyár építésébe a japán Hirosimában. Az ostyagyár bemutatja az EUV litográfiai gépeket, és a tervek szerint 2026 elején kezdik meg az építkezést. A gyártás hivatalosan 2027 végén várható. A Micron hivatalosan is bevezeti az EUV litográfiai technológiát a következő generációs 1-gamma (nm) csomópontba, amelyet 2025-ben fognak tömegesen gyártani.