„Micron“ planuoja Hirosimoje pastatyti naują EUV litografijos DRAM atminties gamyklą

„Micron“ planuoja investuoti 600–800 milijardų jenų, kad sukurtų naują DRAM atminties plokštelių gamyklą Hirosimoje, Japonijoje. Vaflių gamykloje bus pristatytos EUV litografijos mašinos ir planuojama pradėti statyti 2026 m. pradžioje. Tikimasi, kad ji bus oficialiai pradėta gaminti 2027 m. pabaigoje. „Micron“ oficialiai pristatys EUV litografijos technologiją naujos kartos 1 gama (nm) mazge, kuris bus masiškai gaminamas 2025 m.