Micron วางแผนที่จะสร้างโรงงานผลิตเวเฟอร์หน่วยความจำ DRAM EUV lithography ใหม่ในฮิโรชิมา

Micron วางแผนที่จะลงทุน 600 ถึง 800 พันล้านเยนเพื่อสร้างโรงงานเวเฟอร์หน่วยความจำ DRAM แห่งใหม่ในฮิโรชิมา ประเทศญี่ปุ่น โรงงานเวเฟอร์จะเปิดตัวเครื่องพิมพ์หิน EUV และมีแผนจะเริ่มการก่อสร้างในต้นปี พ.ศ. 2569 และคาดว่าจะเริ่มการผลิตอย่างเป็นทางการในปลายปี พ.ศ. 2570 Micron จะเปิดตัวเทคโนโลยีการพิมพ์หิน EUV อย่างเป็นทางการให้กับโหนดขนาด 1 แกมมา (นาโนเมตร) รุ่นต่อไป ซึ่งจะมีการผลิตจำนวนมากในปี 2568