Micron beplan om nuwe EUV-litografiese DRAM-geheuefabriek in Hiroshima te bou

Micron beplan om 600 tot 800 miljard jen te belê om 'n nuwe DRAM-geheuewafer-fabriek in Hiroshima, Japan, te bou. Die wafer-fab sal EUV-litografiemasjiene bekendstel en beplan om vroeg in 2026 met konstruksie te begin. Dit sal na verwagting amptelik aan die einde van 2027 in produksie gestel word. Micron sal amptelik EUV-litografietegnologie bekendstel aan die volgende generasie 1-gamma (nm) nodus wat in 2025 massavervaardig sal word.