Область использования полупроводникового материала подложки из нитрида алюминия Asahi Kasei увеличилась в 4,5 раза

Японская компания Asahi Kasei успешно расширила область использования своих подложек из нитрида алюминия для силовых полупроводников в 4,5 раза по сравнению с предыдущим размером. При использовании подложки диаметром 4 дюйма (около 100 мм) полезная площадь увеличивается с 80% до 99%. Компания планирует начать поставлять образцы производителям полупроводников и стремиться реализовать практическое использование подложек к 2027 году.