Področje uporabe substratnega substrata iz aluminijevega nitrida Asahi Kasei se je povečalo za 4,5-krat

Japonski Asahi Kasei je uspešno razširil področje uporabe svojih substratov iz aluminijevega nitrida za močnostne polprevodnike na 4,5-kratno velikost prejšnje velikosti. Z uporabo substrata s premerom 4 palcev (približno 100 mm) se uporabna površina poveča z 80 % na 99 %. Podjetje namerava začeti dobavljati vzorce proizvajalcem polprevodnikov in si prizadevati za realizacijo praktične uporabe substratov do leta 2027.