Area penggunaan bahan substrat semikonduktor aluminium nitrida Asahi Kasei meningkat 4,5 kali lipat

Asahi Kasei Jepang telah berhasil memperluas area penggunaan substrat aluminium nitrida untuk semikonduktor daya menjadi 4,5 kali lipat dari ukuran sebelumnya. Menggunakan substrat berdiameter 4 inci (kira-kira 100 mm), area yang dapat digunakan diperluas dari 80% menjadi 99%. Perusahaan berencana untuk mulai memasok sampel ke produsen semikonduktor dan berupaya mewujudkan penggunaan praktis substrat pada tahun 2027.