Les tranches épitaxiales de nitrure de gallium à base de silicium de la société Guosheng ont été livrées aux clients

Récemment, la société Guosheng a développé avec succès des tranches épitaxiales de nitrure de gallium sur silicium (GaN-on-Si) et a finalisé la livraison aux clients. Ce produit a été développé par le groupe épitaxial de l'Institut de recherche sur les matériaux du 55ème Institut du CETC et est principalement utilisé pour les puces de circuits intégrés et les dispositifs discrets à semi-conducteurs.