Se han entregado a los clientes obleas epitaxiales de nitruro de galio a base de silicio de Guosheng Company

Recientemente, Guosheng Company desarrolló con éxito obleas epitaxiales de nitruro de galio sobre silicio (GaN-on-Si) y completó la entrega al cliente. Este producto fue desarrollado por el grupo epitaxial del Instituto de Investigación de Materiales del 55º Instituto del CETC y se utiliza principalmente para chips de circuitos integrados y dispositivos semiconductores discretos.