A Guosheng Company szilícium alapú gallium-nitrid epitaxiális ostyáit szállították az ügyfeleknek

80
A Guosheng Company a közelmúltban sikeresen kifejlesztette a gallium-nitridet szilícium (GaN-on-Si) epitaxiális lapkákon, és befejezte a vevői szállítást. Ezt a terméket a CETC 55. Intézet Anyagkutató Intézetének epitaxiális csoportja fejlesztette ki, és főként integrált áramköri chipekhez és félvezető diszkrét eszközökhöz használják.