ASML julkistaa teknologiasuunnitelman seuraavan sukupolven Hyper-NA EUV -litografiakoneelle

ASML on julkistanut teknisen suunnitelman uuden sukupolven Hyper-NA EUV -litografiakoneelle, joka on tällä hetkellä kehitysvaiheessa. Martin van den Brink, yhtiön entinen teknologiajohtaja, sanoi, että Hyper-NA EUV -litografiakoneen on parannettava valonlähdejärjestelmää ja nostettava tuotannon tehokkuus 400-500 kiekkoon tunnissa.