ASML kondigt technologieblauwdruk aan voor de volgende generatie Hyper-NA EUV-lithografiemachine

ASML heeft de technische blauwdruk aangekondigd voor een nieuwe generatie Hyper-NA EUV-lithografiemachines, die zich momenteel in de beginfase van ontwikkeling bevindt. Martin van den Brink, voormalig Chief Technology Officer van het bedrijf, zei dat de Hyper-NA EUV-lithografiemachine het lichtbronsysteem moet verbeteren en de productie-efficiëntie moet verhogen tot 400 tot 500 wafers per uur.