ASML annoncéiert Technologie Blueprint fir d'nächst Generatioun Hyper-NA EUV Lithographie Maschinn

ASML huet den technesche Blueprint fir eng nei Generatioun vun Hyper-NA EUV Lithographie Maschinn ugekënnegt, déi momentan an de fréie Stadien vun der Entwécklung ass. De Martin van den Brink, de fréiere Chef Technologie Offizéier vun der Firma, sot, datt d'Hyper-NA EUV Lithographie Maschinn d'Liichtquellsystem muss verbesseren an d'Produktiounseffizienz op 400 bis 500 Wafer pro Stonn erhéijen.