ASML napoveduje tehnološki načrt za naslednjo generacijo Hyper-NA EUV litografskega stroja

ASML je objavil tehnični načrt za novo generacijo Hyper-NA EUV litografskega stroja, ki je trenutno v zgodnjih fazah razvoja. Martin van den Brink, nekdanji glavni tehnološki direktor podjetja, je dejal, da mora litografski stroj Hyper-NA EUV izboljšati sistem svetlobnega vira in povečati učinkovitost proizvodnje na 400 do 500 rezin na uro.