ASML kuulutab välja järgmise põlvkonna Hyper-NA EUV litograafiamasina tehnoloogiaplaani

ASML on teatanud uue põlvkonna Hyper-NA EUV litograafiamasina tehnilisest plaanist, mis on praegu arendusjärgus. Ettevõtte endine tehnoloogiajuht Martin van den Brink ütles, et Hyper-NA EUV litograafiamasin vajab valgusallikate süsteemi täiustamist ja tootmise efektiivsuse tõstmist 400–500 vahvlini tunnis.