Inanunsyo ng ASML ang blueprint ng teknolohiya para sa susunod na henerasyong Hyper-NA EUV lithography machine

Inanunsyo ng ASML ang teknikal na blueprint para sa isang bagong henerasyon ng Hyper-NA EUV lithography machine, na kasalukuyang nasa maagang yugto ng pag-unlad. Sinabi ni Martin van den Brink, ang dating punong opisyal ng teknolohiya ng kumpanya, na kailangang pahusayin ng Hyper-NA EUV lithography machine ang light source system at pataasin ang kahusayan sa produksyon sa 400 hanggang 500 wafer kada oras.