台积电可能不会采用阿斯麦的下一代High NA EUV光刻机
2027年
ASML
EUV
High NA
阿斯麦
芯片
制造
晶圆
可靠性
高管
光刻
光刻机
设计
成本
2024-05-15 20:33
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台积电的一位高管表示,公司不一定需要使用阿斯麦的下一代High NA EUV光刻机来制造即将推出的2027年A16芯片技术。尽管High NA EUV光刻机有望使芯片尺寸缩小三分之二,但台积电需要权衡其成本和可靠性。台积电可能会设计其A16晶圆厂以适应这项技术,但目前尚未确定。
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