A Samsung Electronics cáfolja a 3 nm-es ostyagyártási hibákról szóló pletykákat

145
A Samsung Electronics a közelmúltban határozottan cáfolta az öntödei 3 nanométeres ostyagyártás hibáiról szóló pletykákat. Korábban arról számoltak be, hogy a második generációs, 3 nanométeres eljárás 2500 tételének meghibásodása 1 billió won veszteséget eredményezett, ami az érintett lapkák ártalmatlanítását teszi szükségessé. A Samsung ellenezte, hogy ezek az állítások "alaptalanok", és azt mondta, hogy a 3 nanométeres gyártás még nem érte el a havi 60 000 ostyát, és a folyamatnak még különböző ellenőrzéseken kell keresztülmennie.