Chuo Glass do Japão desenvolve nova tecnologia de fabricação de substrato de SiC

A Chuo Glass Co., Ltd. do Japão anunciou recentemente que desenvolveu com sucesso uma nova tecnologia de fabricação de substrato de carboneto de silício (SiC). A vantagem desta nova tecnologia é que ela pode reduzir custos e aumentar a produção. Em comparação com o método tradicional de sublimação em alta temperatura, o método de fase líquida tem vantagens óbvias na fabricação de substratos de SiC de grande tamanho e alta qualidade. Espera-se que a aplicação de novas tecnologias possa reduzir o custo de fabricação de substratos em mais de 10%, ao mesmo tempo que melhora significativamente a taxa de rendimento. A japonesa Chuo Glass Co., Ltd. iniciou discussões com grandes empresas europeias e americanas de semicondutores, com o objetivo de permitir que os clientes adotem substratos de SiC feitos com novas tecnologias. A Central Glass planeja começar a fornecer amostras aos clientes já no verão de 2024 e atingir a comercialização em 2027-2028.