A Xinlian Integration segíti a szilícium-karbid anyagok lokalizációs folyamatát

A Xinlian Integration sok erőfeszítést tett a szilícium-karbid területén. Jelenleg a szilícium-alapú anyagok lokalizációs aránya elérte a 90%-ot, miközben a szilícium-karbid anyagok lokalizációja még mindig javul. A Xinlian integrált autóipari minőségű SiC MOSFET lapkái gyorsan iterálnak, és a legújabb G1.7 generációs MOSFET chipek teljesítménye elérte a világ vezető szintjét.