Shanghai Super Silicon Semiconductor costruisce la base di produzione di wafer di silicio intelligente da 300 mm completamente automatica leader a livello mondiale

Shanghai Super Silicon Semiconductor ha stabilito basi di produzione di wafer di silicio da 300 mm (compresi wafer epitassiali a strato sottile) e basi di produzione di wafer di silicio da 200 mm (compresi wafer epitassiali, wafer per ricottura di argon, wafer SOI, ecc.) rispettivamente a Songjiang, Shanghai e Chongqing ha una base di produzione di riciclaggio di Crystal Circle. L'azienda ha costruito congiuntamente un laboratorio congiunto per la tecnologia avanzata dei materiali semiconduttori con università di prima classe e si impegna a migliorare la qualità e il livello tecnico dei prodotti. L'azienda sviluppa e produce in modo indipendente apparecchiature chiave per la crescita dei cristalli, comprese apparecchiature per la crescita dei cristalli laser, sistemi di forni per la crescita dei cristalli di silicio monocristallino da 200 mm e 300 mm, ecc. Inoltre, l'azienda ha anche personalizzato e sviluppato apparecchiature chiave per la tecnologia di elaborazione dei wafer di silicio da 300 mm e ha sviluppato in modo indipendente apparecchiature chiave di base per la produzione integrata SOI.