Shanghai Super Silicon Semiconductor будує провідну в світі повністю автоматичну та інтелектуальну базу виробництва 300-мм кремнієвих пластин

Компанія Shanghai Super Silicon Semiconductor створила виробничі бази 300-міліметрових кремнієвих пластин (включаючи тонкошарові епітаксіальні пластини) і 200-міліметрові виробничі бази (включаючи епітаксіальні пластини, пластини аргонового відпалу, пластини SOI тощо) відповідно має виробничу базу переробки кристалів Circle. Компанія створила спільну лабораторію з передових технологій напівпровідникових матеріалів із першокласними університетами та прагне покращувати якість продукції та технічний рівень. Компанія самостійно розробляє та виробляє ключове обладнання для вирощування кристалів, включаючи лазерне обладнання для вирощування кристалів, системи печей для вирощування монокристалів кремнію розміром 200 і 300 мм тощо. Крім того, компанія також налаштувала та розробила ключове технологічне обладнання для обробки кремнієвих пластин діаметром 300 мм, а також самостійно розробила ключове обладнання для інтегрованого виробництва SOI.