ASMLは先進的なHyper-NA EUVリソグラフィ装置の発売を計画

朝鮮日報によると、オランダのリソグラフィー装置メーカーASMLは、1ナノメートル以下のプロセス向けの先進的なHyper-NA EUVリソグラフィー装置を2030年に発売する計画だという。ただし、各デバイスの価格は7億2,400万ドル以上になると予想されており、TSMC、サムスン、インテルなどの半導体ファウンドリが禁止される可能性がある。