ASML is van plan geavanceerde Hyper-NA EUV-lithografieapparatuur te lanceren

2024-07-02 22:00
 75
Volgens Chosun Ilbo is de Nederlandse fabrikant van lithografiemachines ASML van plan om in 2030 geavanceerde Hyper-NA EUV-lithografieapparatuur te lanceren voor processen onder de 1 nanometer. Verwacht wordt echter dat elk apparaat meer dan 724 miljoen dollar gaat kosten, wat halfgeleidergieterijen zoals TSMC, Samsung en Intel mogelijk zal verbieden.