ASML planerar att lansera avancerad Hyper-NA EUV litografiutrustning

Enligt Chosun Ilbo planerar den holländska litografimaskintillverkaren ASML att lansera avancerad Hyper-NA EUV litografiutrustning för processer under 1 nanometer år 2030. Varje enhet förväntas dock kosta mer än 724 miljoner dollar, vilket kan förbjuda halvledargjuterier som TSMC, Samsung och Intel.